纳米二氧化硅抛光粉/抛光液 晶瑞新材料 甘先生 186 我公司系列二氧化硅抛光是一种高纯度颗粒均匀,分散性好,切削力好,镜面效果好的抛光粉,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光, 抛光范围:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料,光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光 ? 抛光特点:具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、光学器件、宝石玉器等的抛光加工。 技术指标: 型号 外观 粒径 含量 应用 VK-SP50W 白色液体 50nm/100nm 30% 精抛 VK-SP50F 白色粉末 50nm 99.8% 精抛 VK-SP100F 白色粉末 100nm 99.8% 精抛 ? 我公司生产的纳米二氧化硅抛光粉具有粒径小、分散性好,粘度低,抛光亮度高,光泽细腻,可以解决材料表面粗糙度、波纹度和表面缺陷等问题。 可以做光学玻璃抛光,玻璃水钻抛光,宝石抛光,金属抛光,石材抛光等精抛。 ?用量 推荐用量为8~20%,调成浆料再进行抛光。 储藏:常温密闭储藏。 包装:10公斤/袋,20公斤/桶。